用于三星和格羅方德14納米鰭式場(chǎng)效晶體管

俄勒岡州威爾遜維2014年6月3日電 /美通社/ -- 繼三星電子和格羅方德 (GLOBALFOUNDRIES) 宣布一項(xiàng)戰(zhàn)略合作進(jìn)行多源14納米鰭式場(chǎng)效晶體管制造之后，Mentor Graphics Corp. (NASDAQ: MENT) 今天透露，客戶(hù)將能夠使用相同的 Calibre® 平臺(tái)用于驗(yàn)收驗(yàn)證面向三星或格羅方德晶圓廠(chǎng)生產(chǎn)線(xiàn)的集成電路設(shè)計(jì)。通用性已經(jīng)延伸至可制造性設(shè)計(jì) (DFM) 評(píng)分，幫助客戶(hù)確保其設(shè)計(jì)得到充分優(yōu)化，能夠較大程度地利用先進(jìn)的14納米鰭式場(chǎng)效晶體管制造工藝?！爸圃旆治龊驮u(píng)分”(MAS) 平臺(tái)可區(qū)分不同 DFM 效果的優(yōu)先次序，并針對(duì)如何更改設(shè)計(jì)以最小化這些影響提出建議。

(Photo： http://photos.prnewswire.com/prnh/20140317/AQ83812LOGO )

14納米鰭式場(chǎng)效晶體管的驗(yàn)收包括用于雙重曝光設(shè)計(jì)規(guī)則檢查、版圖與原理圖對(duì)查比較、模式匹配驗(yàn)證、光刻友好型設(shè)計(jì)以及先進(jìn)填充制造設(shè)計(jì)的平臺(tái)。在14納米驗(yàn)收套件中納入 DFM 評(píng)分平臺(tái)開(kāi)了行業(yè)之先河，可確保一致的驗(yàn)收環(huán)境。這是確保客戶(hù)供應(yīng)戰(zhàn)略的關(guān)鍵因素，只有通過(guò)全球多個(gè)供應(yīng)源的真正設(shè)計(jì)兼容來(lái)實(shí)現(xiàn)。

14納米鰭式場(chǎng)效晶體管工藝由三星開(kāi)發(fā)，授權(quán)給格羅方德，經(jīng)過(guò)優(yōu)化適用于大容量節(jié)能系統(tǒng)芯片設(shè)計(jì)。其優(yōu)勢(shì)包括三維全空乏鰭式場(chǎng)效晶體管，能夠克服平面晶體管技術(shù)的局限性，與20納米平面技術(shù)相比，它的速度最多能提高20%，功耗減少35%，面積縮小15%。

三星電子晶圓代工營(yíng)銷(xiāo)副總裁 Shawn Han 博士表示：“我們使用 Calibre 平臺(tái)作為我們?cè)O(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)驗(yàn)證的參考工具，因此 Calibre 平臺(tái)是我們客戶(hù)首先用到。由于 Calibre 是面向我們主要客戶(hù)的領(lǐng)先驗(yàn)收工具之一，我們將有很大的信心保證他們的14納米鰭式場(chǎng)效晶體管設(shè)計(jì)在三星和格羅方德全球產(chǎn)能范圍內(nèi)的任何一個(gè)晶圓廠(chǎng)都能用于生產(chǎn)?！?/p>

Calibre 平臺(tái)創(chuàng)造了分解式雙重曝光版圖，這符合三星所有的14納米光刻要求，并針對(duì)三星光罩合成和有機(jī)光導(dǎo)體工藝進(jìn)行了調(diào)整，Mentor 也提供14納米工藝。它通過(guò) Calibre 模式匹配為設(shè)計(jì)師提供了有關(guān)鰭式場(chǎng)效晶體管復(fù)雜設(shè)計(jì)規(guī)則的快速反饋，并通過(guò) Calibre LFD? 產(chǎn)品提供詳細(xì)指導(dǎo)來(lái)消除 DFM 光刻錯(cuò)誤，從而更快、更準(zhǔn)確地修正違規(guī)行為。用于版圖與原理圖對(duì)查比較和萃取的 Calibre 工具已進(jìn)行校正，來(lái)確保精確的設(shè)備和寄生模型用于三星鰭式場(chǎng)效晶體管。此外，Calibre SmartFill 可以實(shí)現(xiàn)平面化，同時(shí)通過(guò)智能放置填充結(jié)構(gòu)來(lái)最小化時(shí)間問(wèn)題。

Mentor Graphics“設(shè)計(jì)至硅片”(Design to Silicon) 部門(mén)副總裁兼總經(jīng)理 Joseph Sawicki 表示：“我們非常高興參與這項(xiàng)新的多源協(xié)作，這可以幫助無(wú)晶圓廠(chǎng)半導(dǎo)體公司獲得鰭式場(chǎng)效晶體管技術(shù)，率先取得硅成功和供應(yīng)保障。Calibre 平臺(tái)的開(kāi)放和我們對(duì)于三星較新技術(shù)的強(qiáng)大規(guī)則平臺(tái)支持為無(wú)晶圓廠(chǎng)客戶(hù)提供了更多的選擇和靈活性，幫助他們保持在其目標(biāo)設(shè)備市場(chǎng)的領(lǐng)先地位?！?/p>

了解有關(guān) Mentor Graphics 與三星之間合作的更多信息，請(qǐng)光臨三星在6月2-4日舊金山設(shè)計(jì)自動(dòng)化會(huì)議 (Design Automation Conference) 上的展位。具體日期和時(shí)間請(qǐng)參見(jiàn) Mentor 和三星網(wǎng)站 (www.samsung.com/us/DAC2014)。