賓夕法尼亞州夸克敦2016年3月14日電 /美通社/ -- QuantumClean和ChemTrace將參加2016年3月15日至17日在上海的上海新國(guó)際博覽中心舉行的2016年SEMICON China貿(mào)易展，展位號(hào)為5154號(hào)。

依托領(lǐng)先的技術(shù)、資源和專(zhuān)長(zhǎng)，QuantumClean成為了20nm以下超高純度半導(dǎo)體部件清洗能力方面的開(kāi)拓者，致力于生產(chǎn)Atomically Clean Surfaces?制程腔體部件。

該行業(yè)對(duì)于更加清潔的制程腔體部件和加強(qiáng)管理的需求不斷加速發(fā)展。QuantumClean于2000年制定了其首個(gè)技術(shù)藍(lán)圖，即預(yù)測(cè)了這些趨勢(shì)并且確定了面向該行業(yè)日益變化的需求的解決方案。在接下來(lái)數(shù)年內(nèi)，QuantumClean的研發(fā)與工程團(tuán)隊(duì)不斷提供面向業(yè)內(nèi)最具挑戰(zhàn)的部件清洗問(wèn)題的創(chuàng)新型解決方案，從而在競(jìng)爭(zhēng)中領(lǐng)先，并且該團(tuán)隊(duì)近期制定了20納米以下的清洗協(xié)議。在參加2016年Semicon China貿(mào)易展期間，該公司期待與個(gè)體設(shè)備制造商、晶圓廠、原始設(shè)備制造商(OEM)和原部件制造商(OPM)分享其各種能力。

面向QuantumClean眾多領(lǐng)先的半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室、原始設(shè)備制造商和對(duì)清潔具有苛刻要求的原部件制造商客戶，ChemTrace提供制程工具部件清洗效果的獨(dú)立分析驗(yàn)證服務(wù)。

ChemTrace銷(xiāo)售總監(jiān)Surjany Russell表示：“自我們于20世紀(jì)90年代末首次推出無(wú)損工具部件分析服務(wù)以來(lái)，ChemTrace的分析技術(shù)目前獲得了領(lǐng)先的設(shè)備制造商和原始設(shè)備制造商的廣泛認(rèn)可，成為了分析測(cè)試技術(shù)方面的首選。我們將全球業(yè)務(wù)拓展至包括韓國(guó)、臺(tái)灣和新加坡的實(shí)驗(yàn)室，這使地區(qū)客戶能直接使用我們的實(shí)驗(yàn)室來(lái)進(jìn)行較快周轉(zhuǎn)時(shí)間的分析。”

QuantumClean和ChemTrace的技術(shù)、商務(wù)和管理團(tuán)隊(duì)將參加這次展會(huì)，并且希望有機(jī)會(huì)就當(dāng)前與未來(lái)的部件清洗/翻新難題和分析要求探討各種解決方案。